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ZETA電位分析儀的操作流程與注意事項(xiàng)如下：操作流程：樣品準(zhǔn)備：選擇適當(dāng)?shù)臉悠愤M(jìn)行測(cè)試，并根據(jù)需要將其稀釋到適當(dāng)?shù)臐舛?。確保樣品溶液均勻混合，并盡量避免產(chǎn)生氣泡或顆粒物。儀器設(shè)置：按照Z(yǔ)eta電位分析儀的說(shuō)明書(shū)，正確設(shè)置儀器參數(shù)。這包括電解池的尺寸、電極類型、溫度和測(cè)量范圍等。確保所有的設(shè)置都與實(shí)際情況相符。校準(zhǔn)儀器：在開(kāi)始實(shí)際測(cè)試之前，應(yīng)該進(jìn)行儀器的校準(zhǔn)。......
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高壓乳化分散機(jī)作為一種創(chuàng)新技術(shù)裝備，在工業(yè)生產(chǎn)中扮演著重要的角色。其性能和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，使其成為提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵工具。本文將詳細(xì)介紹該產(chǎn)品的原理、應(yīng)用和創(chuàng)新意義，以期喚起人們對(duì)于高效工業(yè)生產(chǎn)的關(guān)注。一、該產(chǎn)品的工作原理該產(chǎn)品是一種利用高速旋轉(zhuǎn)剪切和高壓力作用下的分散力，將液體或漿料中的顆粒分散和乳化的設(shè)備......
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激光顆粒計(jì)數(shù)器技術(shù)優(yōu)勢(shì)：1、兩次自動(dòng)稀釋，適合濃度較高的樣品2、符合21CFR法規(guī)軟件——符合cGMP要求；3、現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)，無(wú)需返廠；4、模塊化設(shè)計(jì)，便于升級(jí)及維護(hù)；5、512通道，不放過(guò)任何細(xì)微顆粒；6、符合美國(guó)藥典USP729，中國(guó)藥典CP等要求，且可自定義報(bào)告和標(biāo)準(zhǔn)；7、集自動(dòng)進(jìn)樣、自動(dòng)檢測(cè)、數(shù)據(jù)處理以及自動(dòng)清洗等......
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相對(duì)于離心式分散乳化設(shè)備(如膠體磨、剪切高混合乳化機(jī)等)高壓均質(zhì)機(jī)具有以下特點(diǎn)：1、細(xì)化作用更為強(qiáng)烈。這是因?yàn)楣ぷ鏖y的閥芯和閥座之間在初始位是緊密貼合的，只是在工作時(shí)被料液強(qiáng)制擠出了一條狹縫；而離心式乳化設(shè)備的轉(zhuǎn)定子之間為滿足高速旋轉(zhuǎn)并且不產(chǎn)生過(guò)多的熱量，必然有較大的間隙(相對(duì)均質(zhì)閥而言)；同時(shí)，由于均質(zhì)機(jī)的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)是......
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在食品、化工、制藥等行業(yè)均質(zhì)技術(shù)已成為提高產(chǎn)品品質(zhì)的關(guān)鍵。目前國(guó)內(nèi)食品行業(yè)使用的傳統(tǒng)均質(zhì)設(shè)備多為高壓均質(zhì)機(jī)、膠體磨、砂磨和輥磨機(jī)等,近年來(lái)出現(xiàn)了新型的高剪切均質(zhì)機(jī)設(shè)備。至于這些均質(zhì)設(shè)備在各行業(yè)中的應(yīng)用,目前尚無(wú)人進(jìn)行深入系統(tǒng)地研究。對(duì)此,筆者針對(duì)目前主要使用的高壓均質(zhì)機(jī)和高剪切式均質(zhì)機(jī),從均質(zhì)原理、不同物料的工藝流程以......
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